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双腔热型原子层沉积机TALD-D系列

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德赢VWIN的TALD系列原子层沉积系统是专门为集成电路前端制造先进工艺开发的薄膜沉积装备。系统接纳国际先进成熟的设计头脑和制造手艺 ，充分思量使用化学前驱体的清静性 ，设计与生产遵照天下半导体行业的相关的清静标准SEMI-S2 ，S8标准 ，以优良的品质 ，极高的可靠性 ，超长的使用寿命受到客户的认可 ，产品性能和售后效劳获得用户一致好评。我司可提供知足要求的前驱体源名称、设置响应的前驱体源管路和装置 ，并在交付时提供响应质料的工艺菜单。

    获取详细的装备手艺规格 ，请与我公司销售部分联系。

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双腔热型原子层沉积机TALD-150D
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双腔热型原子层沉积机TALD-D系列
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